ASML的尴尬: 30亿一台的EUV光刻机, 台积电不想要, 全球仅卖5台

ASML是一家神奇的公司，它垄断了全球90%的光刻机市场份额，更是独家生产EUV光刻机，全球没有竞争对手。

但这样一家公司，理论上来讲，完全是香饽饽的，全球的晶圆厂都要找他，抢购它的光刻机，但他却也是为业绩担忧。

一方面是ASML自己说了不算，虽然他是荷兰企业，但上面还有一个“美国爹”，美国不准他的光刻机卖给中国，他就不敢卖，绝不会抗拒。

二是ASML的光刻机也开始走进死胡同了，特别是最高端的EUV光刻机，不仅研发难，且研发成本高，导致价格太贵，大家都不想买了，搞的ASML也是左右为难，不研发不行，研发出来又不好卖。

EUV光刻机，其实是制造7nm以下芯片必须用到的光刻机，全球仅EUV一家能够生产。

早期的EUV光机，称之为LOW NA EUV光刻机，因为其数值孔径是0.33的，后来ASML研发了好多年，又推出了High NA EUV光刻机，数值孔径是0.55的。

按照ASML的说法，在7-3nm工艺时，大家可以用NA=0.33的EUV光刻机，这种光刻机的价格大约是1.5亿美元一台。

但到了3nm以下，也就是2nm、1.4nm、1nm等工艺时，最好换成NA=0.55的High NA EUV光刻机，因为其数值孔径更大，分辨率更高，功率也更低，这样制造时更给力。

不过这种光刻机因为难度大，成本高，所以价格从上一代的1.5亿美元，变成了4亿美元（约30亿元人民币）。

但是这个高昂的价格，让想买光刻机的芯片厂犯了难，买吧实在是太贵了，30亿一台，什么时候能收回成本？不买吧，确实性能更强。

所以英特尔、三星还是买了几台，到目前为止，也就这两家厂商买了，且一共只订了5台。

可是全球最强的芯片厂台积电， 却不买，他说2nm用原来的LOW NA EUV光刻机，甚至1.4/1.6nm也用这种LOW NA EUV光刻机就好了，没有必要。

因为这种High NA EUV太贵了，划不来，台积电在想办法延长LOW NA EUV光刻机的使用寿命，让它也能够制造2nm、1.4nm甚至更小工艺的芯片。

这样的情况，ASML就真的尴尬了，最新的EUV光刻机，仅卖5台，肯定是不行的，估计研发成本都没有收回来，那么接下来的更强大的EUV光刻机，又该如何研发呢，研发了又会有谁来买呢？

ASML现在真的是左右为难了，尴尬极了。不研发新款肯定不行，不可能原地踏步不动了，研发也不行，花巨资研发，最后没人买单，那可如何是好啊。